안테나 방사패턴 측정 시스템

엘텍RF 는 무반향 공간에서 3축 복사 패턴 측정을 수행하는 소형 방사선 측정 시스템(RMS)는 테스트 시스템을 공급 지원 합니다. 370MHz ~ 4GHz의 주파수 범위에서 안테나 방사 패턴, 안테나 이득, ERP, TRP, 전계 강도의 특성화 및 측정에 매우 적합합니다. 광범위한 평가를 통해 합리적인 설정으로 RMS의 정확도가 무반향 테스트 랩의 정확도와 유사하다는 것이 밝혀졌습니다.

납품처: 경남대

초 광대역 측정 시스템 및 RF 구성 요소

GZ6EVK 및 GZ10EVK UWB 레이더키트

RMS는 다음의 측정에 사용됩니다:

무선 장치의 방사 출력 전력 패턴
무선 장치의 고조파 방사 패턴 (최대 6GHz)
생성기 옵션을 사용하는 독립형 안테나의 이득 및 방사 패턴
안테나 주파수에 따른 이득
안테나 주파수에 따른 방사 패턴
주파수에 따른 지향성 안테나의 빔 폭 및 최대 이득

오버뷰

적용분야

잔해 아래 및 벽 뒤의 살아있는 물체 감지
자유 공간 및 벽 이미징을 통한 물체 추적
암 탐지
UWB 비파괴 물체 및 재료 연구
다양한 UWB 레이더 애플리케이션을위한 구성 요소, 방법 및 소프트웨어 테스트

2D 및 3D ISAR RCS 시스템

무반향실 없이 재료및 물체의 반사 매개변수를 측정하는 고분해능 UWB 2D 및 3D ISAR RCS 시스템

안테나 방사 패턴 측정 시스템은 턴테이블의 물체를 회전시키고 방사능을 측정합니다.

무향실이 필요 없고 사무실이나 연구실 내부에서 설치 측정 합니다.
X, Y 및 Z 축을 중심으로 회전하면 소프트웨어가 패턴을 플로팅하고 총 복사 전력 (TRP)을 포함한 통계를 계산합니다. 각 측정 지점은 여러 주파수의 스위프를 포함 할 수 있으므로 여러 방사 패턴을 하나의 회전 시퀀스로 측정 할 수 있습니다.

Generator 옵션을 사용하면 RMS는 안테나 스위프를 수행하고 주파수에 따른 안테나 이득을 표시 할 수도 있습니다.

RMS는 작은 장치를위한 개체 고정 장치와 함께 제공되어 개체 테이블의 직교 위치에서 EUT를 쉽게 배치 할 수 있습니다. 라벨링 시스템은 사용자가 축을 추적하는 데 도움이됩니다.

RMS 시스템은 적당한 공간에서 잘 작동합니다. 4 x 4 x 3m 공간은 800MHz 이상에서 잘 작동합니다. 더 작은 공간이나 더 낮은 주파수의 경우 몇 가지 전략적 흡수기가 필요할 수 있습니다.